Instrumentacion y
Control de Procesos
Domina los fundamentos de la instrumentacion industrial, metrologia, sensores, actuadores y sistemas de control con recursos de nivel universitario basados en estandares ISA, BIPM y las mejores practicas de la industria.
Cinco Unidades de Estudio Integral
Desde los fundamentos de metrologia hasta sistemas de control distribuido modernos, cubriendo todo el espectro de la instrumentacion industrial.
Vocabulario fundamental, caracteristicas metrologicas (exactitud, precision, resolucion, zona muerta, histeresis), clasificacion de instrumentos segun normas ISA-5.1 y SAMA, Sistema Internacional de Unidades y propagacion de errores.
Principios fisicos de transduccion (resistivo, capacitivo, inductivo, magnetico, ultrasonico, piezoelectrico), sensores de temperatura (termopares, RTD, termistores, pirometros), amplificadores de instrumentacion y calibracion segun GUM.
Actuadores neumaticos, electricos e hidraulicos. Caracteristicas inherentes de flujo (lineal e isoporcentual), coeficientes Cv y Kv, dimensionamiento segun ISA-75.01, rangeability y configuraciones Split Range.
Control On-Off con histeresis, control proporcional y offset, control PI y saturacion integral (windup), control PID completo, implementacion electronica con amplificadores operacionales y metodos de sintonizacion Ziegler-Nichols.
Controladores digitales, algoritmos PID de posicion y velocidad, muestreo y teorema de Nyquist, cuantificacion ADC, arquitecturas DDC/SCADA/DCS, instrumentacion virtual con LabVIEW y protocolos OPC UA, MQTT y Sparkplug B.
Conceptos Fundamentales
Terminologia estandarizada segun ISA, BIPM y el Vocabulario Internacional de Metrologia (VIM)
Variables de Proceso
Magnitud fisica objeto de medicion: temperatura, presion, caudal, nivel
Valor deseado o de referencia que se pretende mantener
Magnitud que el controlador altera para influir en el proceso
Cadena cerrada de senales que interconecta proceso, transmisor, controlador y elemento final
Caracteristicas Metrologicas
Grado de concordancia entre valor medido y valor verdadero de referencia
Concordancia entre mediciones repetidas bajo las mismas condiciones
Menor diferencia perceptible entre indicaciones del instrumento
Diferencia en salida segun direccion de aproximacion a la entrada
Intervalo maximo de entrada sin cambio perceptible en la respuesta
Sensores de Temperatura
Efecto Seebeck, rango -270C a +1820C, respuesta rapida
Resistencia de platino, maxima precision industrial, -200C a +850C
Semiconductores, alta precision local, comportamiento exponencial
Medicion optica sin contacto, hasta 3000C, microsegundos de respuesta
Control PID
Accion correctora proporcional al error, genera offset permanente
Elimina offset, acumula error en el tiempo, riesgo de windup
Reacciona a velocidad de cambio, comportamiento predictivo
Metodos de sintonizacion: lazo abierto y ganancia critica
Ecuaciones Fundamentales
Ecuacion PID Continua
Algoritmo de control proporcional-integral-derivativo en el dominio del tiempo
Propagacion de Incertidumbre
Suma en cuadratura para variables independientes (metodo GUM)
Ganancia Amplificador de Instrumentacion
Funcion de transferencia del amplificador AD620
Coeficiente de Flujo Cv
Dimensionamiento de valvulas segun ISA-75.01
Teorema de Nyquist
Frecuencia minima de muestreo para evitar aliasing
Resolucion ADC
Paso de tension elemental del convertidor analogico-digital
Datos Tecnicos de Consulta Rapida
Parametros de sintonizacion, caracteristicas de sensores y guias de seleccion
| Tecnologia | Rango | Precision | Respuesta | Consideraciones |
|---|---|---|---|---|
| Termopares (J, K, T, E, N, S, R, B) | -270C a +1820C | Menor estabilidad a largo plazo | Muy rapido | Efecto Seebeck. Requiere compensacion de junta fria. |
| RTD (Pt100, Pt1000) | -200C a +850C | Maxima precision industrial | Moderado | Resistencia de platino lineal. Conexion a 3 o 4 hilos. |
| Termistores (NTC/PTC) | -100C a +300C | Alta precision local, no lineal | Rapido | Semiconductores de oxido. Uso en laboratorios. |
| Pirometros Infrarrojos | +50C a +3000C | Dependiente de emisividad | Instantaneo (us) | Medicion optica sin contacto fisico. |
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Referencias y Recursos Externos
Material de estudio adicional, estandares internacionales y fuentes academicas verificadas
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